气相沉积按形成的基本原理，分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。
PVD分为真空蒸镀、溅射镀和离子镀。离子镀是蒸镀和溅射镀相结合的技术，离子镀膜具有粘着力强、均镀能力好、被镀基体材料和镀层材料可以广泛搭配等优点，因而获得较广泛的应用。近年来多弧离子镀受到人们的重视。目前在模具上应用较多的是离子镀TiN，这种膜不仅硬度高而且膜的韧性好、结合力强、耐高温。在TiN基础上发展起来的多元膜，如（TiAl）N、（TiCr）N等，性能优于TiN，是一类更有前途的新型薄膜。
CVD是用化学方法使反应气体的基础材料表面发生化学反应形成覆盖层（TiC、TiN）的方法。CVD有多种方法，通常，CVD的反应温度在900℃以上，覆层硬度达到HV2000以上，但高的温度容易使工件变形，沉积层界面易发生反应。发展趋势是降低温度，开发产析的涂层成分。例如金属有机化合物CVD（MOCVD）、激光CVD（LCVD）、等离子CVD（PCVD）等。
